ITO薄膜是指銦錫氧化物的半導(dǎo)體透明導(dǎo)電薄膜，通常在將ITO薄膜鍍?cè)谟袡C(jī)薄膜PET、玻璃和硬性塑料基板上，厚度只有幾千埃（300-500nm）。在這些材料商鍍銦錫氧化物的電阻率極低、可見光高透過率以及紫外光高發(fā)射率的優(yōu)質(zhì)特性，被廣泛應(yīng)用到消費(fèi)電子領(lǐng)域的觸摸屏行業(yè)中。

鍍有ITO薄膜的基材刻線后由上下層線路組合，各自布線X軸與Y軸，兩層線路中間由極小的絕緣點(diǎn)作為隔層，經(jīng)組裝貼合后，對(duì)上方導(dǎo)電膜施以壓力，造成上下X軸與Y軸短路，因而改變其電壓值且產(chǎn)生信號(hào)，再經(jīng)由控制器計(jì)算受壓之處相對(duì)坐標(biāo)位置，此便是ITO觸摸屏的使用。

那么如何在這種ITO薄膜上進(jìn)行加工刻線呢？傳統(tǒng)的ITO刻線采用的是化學(xué)試劑刻蝕，這種方法逐漸被淘汰，主要是其廢品率高，成本高。慢慢開始偏向于成本低、無(wú)污染、易操作、良品率高的激光刻蝕技術(shù)。

激光刻蝕的原理是通過調(diào)節(jié)高能激光束的焦點(diǎn)位置，使直接作用于ITO薄膜層，使得ITO層瞬間氣化，從而達(dá)到蝕刻的效果，同時(shí)由于激光能量的可調(diào)性質(zhì)，這就使得在加工過程中不會(huì)對(duì)底部的襯底材料造成影響。這種方式相比較于化學(xué)試劑刻蝕體積更加小巧、易操作、成本低、良品率高。

通過電腦軟件控制，導(dǎo)入繪制好的ITO線路層的圖形即繪制激光蝕刻圖檔，上料后，調(diào)整好參數(shù)，即可對(duì)其進(jìn)行加工，并對(duì)其進(jìn)行檢測(cè)，保存好設(shè)置的參數(shù)，即可進(jìn)行批量加工，同批次的產(chǎn)品無(wú)需再次調(diào)整參數(shù)既可實(shí)現(xiàn)批量的生產(chǎn)，大大提高的工作效率和良品率。

隨著技術(shù)的發(fā)展，在觸摸屏ITO行業(yè)中的精度要求越來越高，集成化也越來越高端，傳統(tǒng)的刻線方式已漸漸無(wú)法滿足要求，而新型的激光刻蝕方式已逐漸成為主流，其精度在工業(yè)應(yīng)用中已能達(dá)到15μm， 已成為行業(yè)中的主力軍。